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本系统主要由光源、光纤、检测支架、光谱仪四部分组成,并辅以直流电源、光学透镜等组件运行,采用非接触式无损光学测量,主要检测透明或半透明的半导体材料表面膜层厚度、表面糙度以及波导结构。膜厚在3-3200nm范围内,测量精度可达1nm;膜厚在3-70μm内,测量精度可达20-30nm。拥有极高的分析准确度,可同时分析计算多层膜厚,可支持高速在线检测、在线生产分析。
本系统主要由光源、光纤、检测支架、光谱仪四部分组成,并辅以直流电源、光学透镜等组件运行,采用非接触式无损光学测量,主要检测透明或半透明的半导体材料表面膜层厚度、表面糙度以及波导结构。膜厚在3-3200nm范围内,测量精度可达1nm;膜厚在3-70μm内,测量精度可达20-30nm。拥有极高的分析准确度,可同时分析计算多层膜厚,可支持高速在线检测、在线生产分析。
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